Spektrale Reflektometrie zur Schichtdickenmessung

sabse · Anmeldungsdatum: 14.02.2024 Beiträge: 2

Hallo zusammen,

ich hätte ein paar Fragen zur Messung von Schichtdicken mittels spektraler Reflektometrie (SR):

a) Bei der SR wird das Licht in der Regel senkrecht zur Probenoberfläche eingestrahlt. Warum bevorzugt man einen senkrechten Einfallswinkel bei dieser Messmethode?
Wäre es möglich, auch schräge Einfallswinkel zu verwenden?

b) Welche minimalen Schichtdicken (d_min) können mittels SR gemessen werden, beispielsweise bei einem Schichtsystem aus Silizium-Photolack
(Si: Substrat, Photolack: Dünne Schicht)?
Lässt sich die minimal messbare Schichtdicke theoretisch ableiten? Gibt es hierfür vielleicht eine Gleichung?

c) Gibt es eine Möglichkeit, die optische Weglänge zu erhöhen, um somit auch dünnere Schichtdicken (d < d_min) messen zu können?
Zum Beispiel durch einen schrägen Lichteinfall, oder durch einen Aufbau mit Mehrfachreflexionen innerhalb der Schicht oder andere geometrische Tricks bzw. Versuchsanordnungen?

Danke und
Grüße,
Sabse

ML · Anmeldungsdatum: 17.04.2013 Beiträge: 3568

Hallo,

hier wird schon einiges dazu beschrieben:
https://de.wikipedia.org/wiki/Reflektometrische_D%C3%BCnnschichtmessung
https://physicsopenlab.org/2021/09/15/thin-film-reflectometry/

Ein alternatives Verfahren ist die Ellipsometrie:
https://de.wikipedia.org/wiki/Ellipsometrie

Viele Grüße
Michael

sabse · Anmeldungsdatum: 14.02.2024 Beiträge: 2

Hallo,

vielen Dank für die Links, sehen sehr interessant aus

Viele Grüße
Sabse