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dasdassad
Anmeldungsdatum: 05.11.2012 Beiträge: 3
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dasdassad Verfasst am: 05. Nov 2012 16:01 Titel: Ermittlung von Widerständen bei Glaswerkstoffen |
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Guten Tag zusammen,
vielleicht könnt Ihr mir bei meiner Suche weiterhelfen bzw. ein paar Tipps geben:
Ich suche eine Möglichkeit, Verschmutzungen auf einer Glasplatte zu detektieren. Diese ist beschichtet, z.B. mit ZnSe. Die Idee ist, mit Hilfe einer Widerstands- oder Spannungsmessung eine Veränderung und damit den Verschmutzungsgrad auf der Oberfläche zu ermitteln.
Und ab hier wird es unklar...:
Theoretisch ist die Glasplatte durch die Beschichtung kein reiner Isolator mehr, wobei der entstehende Widerstand sehr gering sein wird.==> Gibt es hier eine Möglichkeit, mit einem Messgerät einen Widerstand für die saubere Glasplatte sicher zu ermitteln?
Es kann durch den ablaufenden Prozess zu einer Verschmutzung mit Metallkondensat und normalen Umgebungsstaub kommen. Im schlechtesten Fall muss davon ausgegangen werden, dass die Verunreinigung nur lokal auf der Glasplatte auftritt. Kann, wenn eine Messung des Widerstands auf der sauberen Platte möglich ist, die Verunreinigung durch eine Messwertänderung detektiert werden?
Ich bin für jeden Hinweis dankbar...
Viele Grüße |
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D2

Anmeldungsdatum: 10.01.2012 Beiträge: 1723
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D2 Verfasst am: 05. Nov 2012 16:21 Titel: |
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Was ist eine Verschmutzung in deinem Fall(Art der Verschmutzung nennen)?
Wie gross und wie nahe dürfen noch Schmutzpartikel liegen, dass Detektor nicht ausschlägt?
Soll eine anschließende Reinigung stattfinden?
Hat man Zugang zu der Glassplatte von beiden Seiten?
Wie oft und wie(manuell, automatisch)soll die Messung stattfinden?
Darf man Grund erfahren warum diese Messung notwendig ist und was passiert mit Messergebnissen?
Warum kann man nicht an einer Solarzelle Spannung messen? _________________ Lösungen gibt es immer, man muss nur darauf kommen. |
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dasdassad
Anmeldungsdatum: 05.11.2012 Beiträge: 3
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dasdassad Verfasst am: 05. Nov 2012 16:51 Titel: |
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HAllo D2,
Verschmutzungsanteil ist in absteigender Reihenfolge:
Metallkondensat, Umgebungsstaub, organische Bestandteile(z.B. von einem Fingerabdruck) ==> Detektion von Metallkondensat sollte fürs Erste aber die Referenz sein. Es ist aber nicht sichergestellt, das die VErschmutzung gleichmäßig über die Oberfläche verteilt ist==> Bereiche mit keiner oder starker VErschmutzung möglich.
Wie gross und wie nahe dürfen noch Schmutzpartikel liegen, dass Detektor nicht ausschlägt?
Meinst du den Abstand zum Detektor? Der Abstand zwischen Detektor und auftretender Verschmutzung kann "frei gewählt" werden ==> konstruktiv umsetzbar!
Ansonsten:
Meine Idee wäre gewesen: Messung eines Ausgangswiderstands einer definiert sauberen Platte und dann den Verschmutzungsgrad (durch Prozess und Umwelt) über einen längeren Zeitraum messtechnisch ermitteln ==> im Ergebnis ein Verschmutzungspunkt definieren, der Einfluss auf das Prozessergebnis hat.
Soll eine anschließende Reinigung stattfinden?
Ja, ab bestimmten Verschmutzungsgrad.
Hat man Zugang zu der Glassplatte von beiden Seiten?
Ja, die Verschmutzung wird aber nur an einer Seite auftreten. Die andere Seite ist gekapselt.
Wie oft und wie(manuell, automatisch)soll die Messung stattfinden?
Falls möglich, live im Betrieb. Eine manuelle Messung innerhalb der Maschine ist schwer möglich==> die Messvorrichtung müsste in die Glasplatte "integriert" werden/ oder an die Glasplatte geklebt..... werden.
Darf man Grund erfahren warum diese Messung notwendig ist und was passiert mit Messergebnissen?
Als Beispiel kann man das Laserstrahlschweißen/-Schneiden nehmen. Ein Schutzglas wird verwendet, um die Strahlquelle gegen z.B. Spratzer vom Prozess kommend zu schützen. Das Schutzglas verschmutzt dadurch mit der Zeit und führt unter anderem dazu, dass der Strahl diffus abgelenkt wird.
Warum kann man nicht an einer Solarzelle Spannung messen?
Du kennst bestimmt die Antwort... Ich vermute, mit einer ähnlichen Problematik für mein Thema...?
Gruß |
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D2

Anmeldungsdatum: 10.01.2012 Beiträge: 1723
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D2 Verfasst am: 05. Nov 2012 20:36 Titel: |
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| dasdassad hat Folgendes geschrieben: |
1-Wie gross und wie nahe dürfen noch Schmutzpartikel liegen, dass Detektor nicht ausschlägt?
2-Falls möglich, live im Betrieb. Eine manuelle Messung innerhalb der Maschine ist schwer möglich==> die Messvorrichtung müsste in die Glasplatte "integriert" werden/ oder an die Glasplatte geklebt..... werden.
3-Du kennst bestimmt die Antwort... Ich vermute, mit einer ähnlichen Problematik für mein Thema...?
Gruß |
1-Ich frage wie gross die Schmutzpartikel ausfallen können, und wie oft diese pro sagen wir in 1 cm² auftauchen dürfen, bevor die Reinigung statfindet.
Wird das menschliche Auge diesen Verschmutzungsgrad erkennen?
2-Es gibt Kameraüberwachung, die Recht kompliziert aufgebaut ist,
aber wenn eine Reinigung sowieso stattfinden wird, warum nicht gleich diese Reinigung generell intergrieren? Warum die Verkappsellung nicht auch oben realisieren?
3-Nein, leider nicht, ich kann nur spekulieren z. B. wegen Patenzschutz, Tepmeraturhöhe usw.
Aber wenn die direkte Spannungsmessung mit mehreren Solarzellen nicht realisiert werden kann, soll ein unteren Abschnitt eine spiegelnde Oberfläche besitzen, direkte Bestrahlung mit Licht, Messung der Spannung an lichtempfindlichen Sensoren welche zurückgestrahltes Lich erfassen, wird höhere Aussagekraft haben als die Widerstandmessung (wie sollen z. B. die Staubpartikel Widerstand des Glases ändern?).
Überhaupt muss die Frage so gestellt werden, dasss die mögliche Antwort das Problem tatsächlich löst. Besser noch, man muss der Hauptursache des Problems auf der Grund gehen.
Sind es Staubpartikel? Entferne diese elektrostatisch!
Sind es Dämpfe? Verhindere Entstehung diesen, hindere Kontakt mit dem Glas. _________________ Lösungen gibt es immer, man muss nur darauf kommen. |
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dasdassad
Anmeldungsdatum: 05.11.2012 Beiträge: 3
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dasdassad Verfasst am: 05. Nov 2012 21:47 Titel: |
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1-Ich frage wie gross die Schmutzpartikel ausfallen können, und wie oft diese pro sagen wir in 1 cm² auftauchen dürfen, bevor die Reinigung statfindet.
Wird das menschliche Auge diesen Verschmutzungsgrad erkennen?
Ach so...
Die Größe der Staubpartikel ist < 20µm/Partikel, die Größe an sich schwankt aber wiederum stark. Das menschliche Auge wird eine Verschmutzung der Oberfläche erkennen, aber erst bei deutlichem Beschlag. Das Problem hier ist, das bereits eine lokale Verschmutzung irgendwo auf der Glasplatte zu einem starken Einsfluss auf den Prozess führen kann.
2-Es gibt Kameraüberwachung, die Recht kompliziert aufgebaut ist,
aber wenn eine Reinigung sowieso stattfinden wird, warum nicht gleich diese Reinigung generell intergrieren? Warum die Verkappsellung nicht auch oben realisieren?
Eine Kameraüberwachung wird mit der am Markt verfügbaren Auflösung schwierig. Ausserdem muss wahrscheinlich eine aufwendigere SW-Auswertung erfolgen, um dahinterliegende Objekte oder Spiegelungen sicher herausfiltern zu können.
Die Reinigung ist im Wartungszyklus integriert, die Reinigung an sich ist aber fehlerbehaftet. Ausserdem reagiert der Prozess empfindlich auf (im Prozess) entstehende Verschmutzungen.
Eine Einhausung kann leider nur zu einer Seite umgesetzt werden, ähnlich Laserschweißen... von einer Seite kommt der Strahl, auf der anderen Seite ist das zu schweißende Medium.
zu 3.: Wir haben schon mehrere Ansätze verfolgt. Bisher ohne richtigen Erfolg. Wir versuchen die Partikel soweit wie möglich durch verschiedene Maßnahmen zu minimieren. Eine elektrostatische Aufladung zur Reduzierung des Umgebungsstaubs führt zu einer deutlichen Verschmutzung mit Metallstaub....
Aus meiner Sicht sind bereits alle prozessbegleitenden Maßnahmen zur Reduzierung von Verschmutzung integriert worden. Im Moment ist der Verschmutzungsgrad durch präventive Maßnahmen nicht weiter zu reduzieren.
Ein Ansatz möglicher Ansatz wäre noch über eine Infrarotkamera. Durch die unterschiedlichen Reflexions-/Brechungswerte könnte man etwas detektieren. Es scheitert sber wahrscheinlich wieder an der Auflösung des Sensors.
Ist eine elektromagnetische Messmethode mit Sender-Empfänger neben der Glasplatte eine Möglichkeit? Durch die entstehenden Änderungen(?) ggü. dem Ausgangszustand kann ich vielleicht etwas messen, ohne das ich ein leitfähiges Medium/Material benötige...
Hat jemand vielleicht Erfahrung bei Messung von Schichtdicken bei beschichteten Oberflächen (z.B. Waver-HErstellung)? Möglichst zerstörungsfrei... |
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D2

Anmeldungsdatum: 10.01.2012 Beiträge: 1723
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D2 Verfasst am: 06. Nov 2012 12:08 Titel: |
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| dasdassad hat Folgendes geschrieben: |
Die Reinigung ist im Wartungszyklus integriert, die Reinigung an sich ist aber fehlerbehaftet. Ausserdem reagiert der Prozess empfindlich auf (im Prozess) entstehende Verschmutzungen.
Eine Einhausung kann leider nur zu einer Seite umgesetzt werden, ähnlich Laserschweißen... von einer Seite kommt der Strahl, auf der anderen Seite ist das zu schweißende Medium.
Wir haben schon mehrere Ansätze verfolgt. Bisher ohne richtigen Erfolg. Wir versuchen die Partikel soweit wie möglich durch verschiedene Maßnahmen zu minimieren. Eine elektrostatische Aufladung zur Reduzierung des Umgebungsstaubs führt zu einer deutlichen Verschmutzung mit Metallstaub....
Aus meiner Sicht sind bereits alle prozessbegleitenden Maßnahmen zur Reduzierung von Verschmutzung integriert worden. Im Moment ist der Verschmutzungsgrad durch präventive Maßnahmen nicht weiter zu reduzieren.... |
Zuerst möchte ich betonnen, dass die Reinigung kein Einfluss auf die Ursache
ausüben kann und mit Folgen des Prozeses zu kämpfen hat,
wobei die Detektierung der Schmutzpartikel extrem schwierig ist.
Aber gut, vielleicht soll das Glass als Lichtleiter geprüft werden?
Vielleicht soll die Reinigung erleichtet werden, in dem auf das Glass bewusst eine zusätzliche Beschichtung angebracht wird, welche zum späteren Zeitpunkt leichter zu entfernen wäre?
Kann man die Prozesse so verändern, dass diese volständig unter einer Flüssigkeit ablaufen? Spielt die Schwerktaft eine Größe bei der Schmutzverteilung?
Reagiern die entstehende Partikel die sich noch nicht auf das Glas abgesetz haben auf Magnetfelder?
Hat man die Hauptursache der Verschmutzung analysiert, gibt es Folgefehler
die die Verschmutzung mitverursachen, beeinflüssen? Hat man die Prozessschwankungen zeiltlich(Schicht, Tag, Nacht, Winter,Sommer) analysiert?
Hat man mit Techniker aller Schichten, die für die Anlage bzw. Reinigung zuständig sind über das Problem gesprochen und fand eine Simulation schlechteren Bedingungen statt?
Gibt es mehr als eine Anlage um die Prozesse zu vergleichen umd optimieren?
Über elektrostatische Aufladung: Wenn es sich um Metallstaub handelt, sollte vielleicht die zweite Elektrode auserhalb der Anlage befinden?
Vielleicht können Chemiker auch mit einem Rat helfen? _________________ Lösungen gibt es immer, man muss nur darauf kommen. |
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Laron
Anmeldungsdatum: 20.02.2012 Beiträge: 230
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Laron Verfasst am: 07. Nov 2012 07:52 Titel: |
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Ergänzend zu D2:
Was spricht gegen einen Schwingquarz?
Man könnte das Prinzip sogar auf die Platte selbst übertragen.
Was spricht gegen eine Transmissionsmessung?
Dafür muß der Detektor auch keine besondere Auflösung haben. |
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